Gli atomi consistono di un nucleo di caricato positiva circondato da una nube di elettroni negativamente caricati. A volte gli atomi possono guadagnare o perdere elettroni, che porta a loro l'acquisizione di una carica netta positiva o negativa. Un atomo con una carica netta è conosciuto come un ione. Il plasma è una nuvola di ioni, e questi possono avere un numero di utilizzi nell'industria della lavorazione di semiconduttori. Un plasma può essere prodotta all'interno di una camera a vuoto riempita di Argon utilizzando un alimentatore che genera radiazione di radiofrequenza (RF).
Istruzioni
• Accendere la pompa rotativa e attendere che la pressione arrivare a 10 ^-3 millibar. Accendere la pompa turbo e attendere fino alla rampa. Aspettare fino a una pressione di circa 10 ^-6 millibar è raggiunto.
• Collegare un cavo RF tra l'unità corrispondente RF e la fornitura di potenza RF. Collegare un altro cavo tra l'unità corrispondente di RF e la presa di elettrodo RF camera a vuoto.
• Chiudere parzialmente la valvola per la pompa turbo. Accendete il regolatore di portata massica di Argon e impostare una pressione di 15 millibar. Accendere l'unità corrispondente e fornitura di potenza RF. Impostare una potenza di 50 watt. L'unità corrispondente è sentito come si cerca di ridurre al minimo la potenza riflessa di RF. Quando la potenza riflessa è meno dell'1% della potenza in avanti, aumentare la potenza a circa 150 watt. Il plasma all'interno della camera dovrebbe luce ed essere visibile anche se la camera vista-porta. Diminuire lentamente la potenza propulsiva torna a 50 watt. Il plasma di coppia RF viene creato.