Tecnologia delle celle solari è comunemente utilizzata per creare dischi di silicone che creano un campo elettrico che genera energia elettrica dalla luce solare. Le celle solari sono utilizzate in un'ampia varietà di applicazioni, tra cui calcolatrici, apparecchiature per le telecomunicazioni, pannelli solari e altre applicazioni. Esistono molteplici tecniche per schermo stampa celle solari; Tuttavia, il blocco predefinito di base rimane la stessa..--utilizzare un "drogato substrato" o wafer di silicone e aggiungere altri componenti. Il processo di produzione deve avvenire in un ambiente altamente puro e incontaminato.
Istruzioni
• Iniziare con un wafer di silicone che è.0.55 mm di spessore e 10 per 10 cm quadrati. La cialda deve aver completato il processo anti-doping, che richiede piccole quantità di boro. Ricoprire la cialda nel fluido da taglio a causa della superficie irregolare causata dalla sega circolare usata per tagliare il componente.
• Applicare un alcalino etch per pulire il wafer di silicone e rimuovere lo strato esterno. Pulire la cialda come rapidamente come possibile e alla giusta profondità. Calore il wafer di silicone in un forno di sinterizzazione ad una temperatura da 800 a 1000 gradi Celsius. Eseguire questo passaggio in un ambiente di gas fosforo; Questa procedura impone fosforo negli strati esterni del wafer.
• Stack due ostie; utilizzare gas plasma per rimuovere la giunzione intorno ai bordi dei wafer in silicone. Acquaforte del plasma rimuove lo svincolo anteriore per evitare il contatto con la parte posteriore della cella solare. Serigrafia sul retro della cella. Abbassare lo schermo con la pasta di metallo. Utilizzare la pasta d'argento, che crea una cella più performante con un campo superficie posteriore. Applicare una seconda stampa della pasta d'argento, che crea un contatto saldabile.
• Assicurarsi che ci sia una corretta "snap-off" distanza tra lo schermo e il wafer di silicone. Spostare il meccanismo di tergipavimento attraverso lo schermo. Controllare la velocità e la pressione della racla prima di procedere. Questa azione impone la pasta di metallo attraverso la perforazione nella schermata di stampa. Mettere la cella in un secondo forno ad una temperatura superiore, ma sotto il punto di fusione del wafer in silicone - 1.410 gradi Celsius. Questo associa il contatto metallico al wafer in silicone.
• Rimuovere lo schermo. Il wafer è ormai di uno spesso strato di metallo di pasta. Consentire la pasta ad asciugare nel forno, che rimuove i solventi e leganti organici. Il passo di infornamento demolisce lo strato posteriore-n, che aiuta il metallo fare contatto con la maggior parte di tipo p. Girare la cella sul lato anteriore e ripetere il processo. Riscaldare il silicio in un forno di sinterizzazione ad una temperatura da 500 a 800 gradi Celsius. Questo passaggio genera la pasta di metallo e si fonde per la cialda in silicone. Incapsulare il pannello solare in un pannello solare.